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高純硅烷分析色譜主要特性
更新時間:2017-12-23   點(diǎn)擊次數(shù):1634次
   高純硅烷分析色譜主要特性
  高純硅烷分析色譜應(yīng)用領(lǐng)域:
  硅烷在大規(guī)模集成電路(LSI)、超大規(guī)模集成電路(VLSI)和半導(dǎo)體器件制造中,用于氣相外延生長、化學(xué)氣相淀積等工藝(工序)。
  1.外延(生長)混合氣在半導(dǎo)體工業(yè)中,在仔細(xì)選擇的襯底上選用化學(xué)氣相淀積的方法,生長一層或多層的材料所用的氣體叫做外延氣體。常用的硅外延氣體有二氯二氫硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀積,多晶硅淀積,氧化硅膜淀積,氮化硅膜淀積,太陽能電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積等。外延生長是一種單晶材料淀積并生長在襯底表面上的過程。
  2.化學(xué)氣體淀積(CVD)用混合氣CVD是利用揮發(fā)性化合物,通過氣相化學(xué)反應(yīng)沉積某種單質(zhì)或化合物的一種方法,即應(yīng)用氣相化學(xué)反應(yīng)的一種成膜的方法。依據(jù)成膜種類,使用的化學(xué)氣相淀積(CVD)氣體也不同。
  高純硅烷分析色譜主要特性:
  1、全兼容惠普HP5890II氣相色譜儀,可直接接駁HP5890微型單絲熱導(dǎo)檢測器、氫火焰離子化檢測器及相關(guān)檢測器控制板.儀器技術(shù)指標(biāo)、性能,檢測器靈敏度可與HP5890相媲美!
  2、全新集成數(shù)字電子電路,控制精度高,性能穩(wěn)定可靠,溫控精度可達(dá)0.01℃.
  3、*的進(jìn)樣口設(shè)計(jì)解決進(jìn)樣歧視;雙柱補(bǔ)償功能不僅解決升溫帶來的程序漂移,而且減去背景噪音的影響,可以得到更低的zui小的檢測限。

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